Oscar Abreu reconocerá personalidades en evento único de moda y artes plásticas

NUEVA YORK. - El reconocido pintor y promotor del arte dominicano Oscar Abreu inicia sus actividades de 2014 con un novedoso concepto que une el mundo de la moda al de las artes plásticas, con la participación de varios diseñadores y una exhibición colectiva.

Esta nueva propuesta cultural se titulada “Ritmo, Color y Estilo” y contará de un magnifico desfile de moda en medio de la exhibición de cuadros de importantes artistas plásticos como Fernando Ureña Rib, Sócrates Márquez, John Vanmeans, Luigi Jiménez, Dionisio Blanco, Jesús Desangles, Juan Andújar, Pedro Gallardo, Melchor Terrero, E. Lee White, Aram Musset, Renato Encarnación y Karima Boutaleb.

Abreu anunció además que aprovechará la oportunidad para otorgar un reconocimiento a  personalidades como el doctor Ramón Tallaj, el doctor Eliecer Guzmán, el congresista Charles Rangel, el Empresario Artististico Felix Cabrera,  el dirigente comunitario Moisés Pérez, La comunicadora Patsi Arias y el Rey de la Radio Polito Vega, por su grandes aportes sociales y profesionales  al desarrollo de la comunidad hispana en Estados Unidos.   

El evento está programado para el próximo jueves 13 de febrero, a partir de las seis de la tarde, en los salones de eventos especiales de Harlem Work Space, ubicado en el 2350  de la Quinta Avenida (esquina 142) Harlem.

De acuerdo con Abreu, "el público disfrutará de una noche estelar con la presentación de las últimas tendencias en el mundo de la moda donde las encantadoras modelos estarán exhibiendo el trabajo de Milagros Batista, Ona Otite y Epperson”.

Para el evento han sido convocadas reconocidas personalidades de la vida política, social y cultural de la comunidad hispana de Nueva York y otras ciudades.